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鎢坩堝廠家介紹濺射靶材的難點及市場空間

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鎢坩堝廠家介紹濺射靶材的難點及市場空間

2019-05-22

    高純濺射靶材是伴隨著半導體工業的發展而興起的,濺射靶材市場不僅僅在於電子行業,近年來砍濺射靶材的市場規模正在悄然發展,下麵鎢坩堝廠家帶草莓丝瓜app无限制观看一起來了解一下濺射靶材的難點及市場空間。 

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      靶材的難點僅僅看純度麽?

  靶材性能影響鍍膜質量,不同應用性能要求各有側重,通常半導體靶材純度高,平麵顯示靶材麵積大對均勻性、焊接率要求高,而多元素靶材對原料成分和組織均勻性提出更高要求。靶材原料高純金屬和陶瓷粉位於靶材產業鏈的高附加值環節,主要依靠日美進口,而國內少數金屬企業或靶材企業已開始突破鋁、銅、鉬等高純金屬原料和ITO 粉末等關鍵技術。


      濺射靶材市場空間真的很小麽?

  半導體在靶材應用中約占10%;而顯示、磁記錄各占約30%,市場不容小覷。靶材需求隨顯示、半導體等市場需求增加,同時單個產品的用量也在提升。WSTS 統計16 年全球靶材市場113.6 億美元,17-19 年複合增長率13%,則18 年全球市場約合人民幣983 億元。安泰科預計18 年全球金屬鈷和碳酸鋰的消費量分別為12.5、28.8 萬噸,假設18 年價格中樞分別為50、11 萬/噸,則鈷鋰市場合計941 億元,與靶材市場規模相當。

      濺射靶材的市場發展空間還是相當巨大的,隻要了解了市場詳情,就能把握住機遇。


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